晶体光学腔在4k时具有热噪声限制不稳定性和超低漂移
2019-03-08
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晶体光学腔是实现当今最先进的超稳定激光器的基础。基于前人研究的硅腔的努力基础，近日，来自美国科罗拉多大学的研究人员已实现在4K温度下使6cm长的硅腔的基本热噪声限制稳定性达到6.5×10^−17在0.8s到80s内。据目前所知，研究人员还首次报道了腔频漂移与入射光功率的线性关系。3×10^−19 / s的最低分数频率漂移的传输功率达到40nW，从而可以推断没有光功率漂移达到零。这些实验为使晶体光学腔能够达到一个新的稳定的激光性能领域指明了方向，这种晶体光学腔的稳定性比1×10^-17更好并且线性漂移小于1×10^−19/s。
光学腔装置和测量系统示意图
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