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高阻抗反射镜中的光发射效率增强

2018-09-18

浏览量(105)

固态发光器件的发展使其在照明和显示应用中的使用大大增加。然而,发光器件的效率和功率仍然有进一步提升的空间。一般而言,固态发光器件需要依靠高导电性的金属触点来进行有效的电荷注入;不幸的是,这里的金属还激发了能量耗散型的表面等离激元(Surface Plasmon Polariton,SPP)模式,导致发光器件产生的光发生了能量耗散,限制了器件的外量子效率(External Quantum Efficiency)。最近,来自美国斯坦福大学的MarkL. Brongersma教授领衔的科研团队受到射频高阻抗表面的概念及其在共形天线中的应用的启发,向我们展示了如何通过对金属电极的纳米图案化,在光学频率下同时获得高电导率和高阻抗性质。研究表明,在整个可见光频段,纳米图案化的电极不支持SPP模式的激发,从而能够极大地抑制光学能量的损耗,有助于促进形成理想的朗伯发射分布(Lambertian emission profile)。研究人员通过分析沉积于金属电极上的染料发射层的发射增强和光致发光寿命,验证了利用这一概念实现发光效率增强的可行性,这将为LED、OLED显示和发光应用提供新颖的研究思路。相关工作发表在近期的《Nature Communications》上。

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