拓扑缺陷（topological defect）是一种不能被变幻成标准、平滑形状的物理场构造，在各种物理系统中起着关键作用，包括高能物理到固态物质。其中，Skyrmion是一种典型的拓扑缺陷，已经在磁存储和自旋电子学等领域显示出巨大的应用前景。最近，来自以色列理工学院的G. Bartal教授领衔的科研团队表明：倏逝电磁场（evanescent electromagnetic field）是产生光学Skyrmion晶格的一种有效途径，他们通过相位分辨的近场光学显微镜成像技术（phase-resolved near-field optical microscopy）所观测到的表面等离极化激元（surface plasmon polariton）证明了这一论点。在实验中，研究人员还向我们展示了光学Skyrmion晶格是如何表现出对缺陷的鲁棒性（robustness），同时晶格中的拓扑畴壁（topological domain wall）可以发射连续调制，可将skyrmion晶体的空间结构从气泡型（bubble-type）变为Néel型。这一研究将skyrmion研究扩展到光子系统，为光学信息处理、传输和存储中的应用提供了多种可能性。相关工作发表在近期的《Science》杂志上。

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