光电所在低缺陷密度红外薄膜制备工艺方面取得进展
浏览量(208)
中国科学院光电技术研究所薄膜光学技术研究室在低缺陷密度红外薄膜制备工艺方面取得进展:通过优化红外薄膜的镀膜工艺,硫化锌/氟化镱多层膜的缺陷密度显著降低。
红外薄膜的缺陷是影响红外薄膜光学性能和其稳定性的重要因素,越来越受到国内外相关研究人员的关注。光电所研究团队通过优化沉积沉积速率、沉积温度和沉积方式,显著降低了多层红外薄膜的缺陷:多层红外薄膜的缺陷密度降低了一个数量级。采用低缺陷密度工艺参数制备的164nm高反射膜,反射率大于99.9%,吸收小于100ppm。
该研究成果发表于Surface & Coatings Technology, 320(2017)。
Fig.1 Reflectance spectra of 1064nm high-reflectance coating
图1 1064nm高反射膜的反射率光谱
Fig.2 Absorption of 1064nm high-reflectance coating
图2 1064nm高反射膜的吸收
来源: 中国科学院光电技术研究所
分享至好友和朋友圈
免责声明:
网站内容来源于互联网、原创,由网络编辑负责审查,目的在于传递信息,提供专业服务,不代表本网站及新媒体平台赞同其观点和对其真实性负责。如因内容、版权问题存在异议的,请在 20个工作日内与我们取得联系,联系方式:021-80198330。网站及新媒体平台将加强监控与审核,一旦发现违反规定的内容,按国家法规处理,处理时间不超过24小时。