在慕尼黑光博会上Nanoscribe退出用于微制造的Quantum X机型
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来自德国的Nanoscribe公司于2019年的慕尼黑国际应用激光、光电技术贸易博览会上,推出了基于增材制造的微透镜阵列制造设备Quantum X。据Nanoscribe介绍,Quantum X是纳米级和微米级高分辨率增材制造系统,专为高精度微光学无掩模光刻而设计。
Nanoscribe称,Quantum X是世界上首套基于双光子灰度光刻技术(two-photon grayscale lithography,2GL)的工业系统,2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合,可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。
该系统配备三个用于实时过程控制的摄像头和一个树脂分配器。为了简化硬件配置之间的转换,物镜和样品夹持器识别会自动运行。同时配备的多层衍射光学元件(DOE)可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成,从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示,折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力,可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列,以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状,如球面和非球面透镜。Quantum X的软件能实时控制和监控打印作业,并通过交互式触摸屏控制面板进行操作。为了更好地管理和安排用户的项目,打印队列支持连续执行一系列打印作业。
在双光子灰度光刻工艺中,激光功率调制和动态聚焦定位在高扫描速度下可实现同步进行,以便对每个扫描平面进行全体素大小控制。Nanoscribe称,Quantum X在每个扫描区域内可产生简单和复杂的光学形状,具有可变的特征高度。离散和精确的步骤,以及本质上为准连续的形貌,可以在一个步骤中完成打印,而不需要多步光刻或多块掩模制造。
本文译自https://www.laserfocusworld.com/optics/article/14035345/nanoscribe-quantum-x-twophoton-grayscale-lithography-microoptics-fabricator
kevin编译编辑
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